前面我们探讨过量子计算光明而遥远的未来，回归现实之中，我们还是只能依靠经典计算来解决当下的计算需求。

　　所以，科学家们也在努力给摩尔定律续命。其中一项极为关键的技术，就是——EUV极紫外光刻。

　　过去一两年的时间里，EUV没少在产业中刷存在感。三星、台积电、英特尔等都在争先恐后地将EUV投入芯片量产，中芯国际斥资1.2亿美元买入EUV光刻机成了大新闻，日本对韩国的半导体禁令中，EUV光刻胶更是被关注的焦点……

　　这项技术凭什么被称为摩尔定律的救星，又是否来到了最好的应用节点呢？

　　EUV登场：为摩尔定律再续一秒

　　计算能力看芯片，芯片性能看光刻，那光刻技术看什么，在众多工艺中，大多数产业人士给出的答案，就是EUV。

　　所谓EUV，指的是波长13.5nm 的极紫外光，相比于当前主流光刻机用的193nm光源，EUV的光源只有十五分之一，能够在硅片上刻下更小的沟道。

　　业内形容EUV的细致程度，就好像从地球上发出的手电筒光线，精准地照射到一枚月球上的硬币一样。这么严苛的工艺要求，真的有必要吗？